新華社北京1月4日電（記者宋晨）國家知識產(chǎn)權局局長(cháng)申長(cháng)雨在4日召開(kāi)的2024年全國知識產(chǎn)權局局長(cháng)會(huì )議上介紹，我國知識產(chǎn)權審查質(zhì)量效率持續提升，創(chuàng )新主體獲得感不斷增強。2023年全年共授權發(fā)明專(zhuān)利92.1萬(wàn)件、實(shí)用新型209萬(wàn)件、外觀(guān)設計63.8萬(wàn)件，注冊商標438.3萬(wàn)件，登記集成電路布圖設計1.13萬(wàn)件。
“我們綜合運用多種審查模式，滿(mǎn)足多樣化需求。”申長(cháng)雨說(shuō)，發(fā)明專(zhuān)利平均審查周期縮短至16個(gè)月，首次實(shí)現結案量超過(guò)進(jìn)審量。商標注冊平均審查周期穩定在4個(gè)月，一般情形商標注冊周期穩定在7個(gè)月。專(zhuān)利智能審查和檢索系統上線(xiàn)運行，商標審查管理系統持續優(yōu)化升級。
值得注意的是，我國知識產(chǎn)權審查質(zhì)量持續提升。申長(cháng)雨表示，2023年我國發(fā)明專(zhuān)利審查結案準確率達到94.2%，專(zhuān)利審查滿(mǎn)意度指數達86.3，連續14年保持在滿(mǎn)意區間；商標審查、異議、評審抽檢合格率均達到97％以上。
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